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先進封裝晶圓切割之TSV通孔層超薄晶圓
發布時間:2023/05/16 14:04

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切割(Dicing)工藝無論在晶圓后道,還是在封裝后段都是關鍵技術之一。在晶圓后道是將DIE從Wafer上切割下來,在封裝后段則是指將貼晶打線塑封后多個芯片連接在一起的框架或載體切割成單個成品。當然晶圓后道的切割工藝更為復雜。

在先進封裝領域,以切割難度最大的一種產品為例,其晶圓厚度<75um,而且布有“via-middle” 3DI/TSV通孔層。切割是在wafer減薄和背面處理后進行切分。這使得業界常用的一種先切割后減薄工藝無法采用,再加上背面對齊標記、TSV或其它特征的存在給切割過程進一步增加了挑戰。此外,在整個wafer結構中使用力學性能較差的低k和超低k介質也可能會出現其它問題,例如:
1)器件層分層;
2)正面和/或背面過度崩角(DIE chipping);
3)DIE邊緣側壁開裂或DIE Chipping;
4)與裂紋擴展相關的長期可靠性問題;
5)取DIE過程中DIE 容易斷裂。
切割質量影響因素較多:切割設備,刀片,Dicing Tape(切割時晶圓附著的膜),切割參數等。

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先聊聊切割中最關鍵的耗材刀片(Blade)。刀片厚度的選擇決定于晶粒間距和路緣寬度(kerf width),刀刃厚度(blade exposure)是指可用于切割部分,較厚的刀刃可以延長葉片壽命,而較短刀刃可以在較高的轉速下姿態保持更穩定。刀片網格(Blade mesh)是指組成刀片所用金剛石的相對尺寸,較小的blade mesh代表所用金剛石尺寸更小。較大的鉆石有更多的切割力,但可能會加劇DIE chipping,而較小的金剛石可以使切割后的邊緣更光滑。但是,如果所選的網格太細,刀片可能無法將晶圓切開。當然刀片也不全是由金剛石組成,大家可以圖1所示,金剛石的占比大約只占25%左右。


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圖1 ZH05-SD2000刀片邊緣顯微鏡圖:金剛石在表面分布

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圖2 ZH05-SD3500刀片邊緣顯微鏡圖:金剛石在表面分布


晶圓切割當前主流仍采用Disco開發的匿痕切割(Stealth Dicing, SD)法,該法的特點是使用高功率激光來破壞硅基的晶格,然后用切刀進行切割,最后再通過膨脹(拉伸)Dicing tape 使得晶粒分開。該方法可以最大程度的較少DIE chipping發生的可能性。可以簡單理解為在物理刀片切割前,先由激光進行預切割,在切割路徑上預先破壞晶圓。從而減少物理刀片切割時產生的DIE chipping。激光通常會通過聚焦,聚集在需要切割的路徑上,而激光的波長決定了激光聚焦后斑點的大小。激光的波長又由激光的類型決定。較厚的晶片可能需要在不同的深度進行多次的激光預切割。眼科手術中常用的飛秒激光,也被應用于該領域。


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圖3 DIE chipping 崩角;a) 由晶圓上方開始出現的裂紋;b)頭發絲裂紋


根據wafer晶圓布線不同,切割形式有多種多樣。如圖4和圖5所示。還有一種完全由激光切割的方法,但是由于激光強度太大,很容易在切割邊緣產生如圖6所示的缺陷:(1)金屬熔化產生的高低不平的邊緣和(2)硅熔化產生的的不規則體。


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圖4 Step1: 晶圓制備時自帶隔離區,Step2:匿痕切割,Step3:擴膜將晶粒分開

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圖5 激光通切示意圖

圖6 激光通切產生的缺陷


在介于“激光通切”和“激光+刀片切割”之間還有一種叫做Laser Scribing (Grooving)的方法。該方法示意圖如圖7所示,先進行激光開槽,然后在兩道激光中間用刀片進行切割。當然還有更復雜的切割方法如圖8所示,將多種切割方法混合進行切割。當然萬變不離其宗,最終的目的都是為了減少DIE edge的chipping和分層等缺陷。


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圖7 Laser Scribing (Grooving) 示意圖

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圖8 混合切割法


跳出激光和切刀的束縛,還有一種等離子切割法(Plasma Dicing)。該方法借鑒了晶圓生產工藝中干刻蝕的工藝,使用深度活性離子蝕刻(deep reactive ion etch,DRIE)。這種技術在切割過程中不會對晶片產生機械應力,不會產生碎片,不會產生正反面chipping,也不會在DIE的側壁產生應力,從而大大的提高了良率。

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圖9 松下公司的等離子切割樣品

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圖10 等離子切割示意圖




當然各種切割工藝都不是完美的,需要根據產品的特性進行選擇。就拿等離子切割為例,其雖然有前文描述的種種優勢,但是切割效率低,設備昂貴,工藝復雜(特別是掩膜,去膜步驟),總成本高等明顯的缺點。


表1 不同廠家切割機性能對比

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最后,我們再簡單了解一下主流切割裝備的選擇及廠商選擇。切割機與其它半導體設備所要考慮的參數沒有太大區別,需要考慮定位精度,切割精度,工作范圍,最大行程,移動分辨率,重復精度,最大旋轉角度,刀片轉速,額定扭矩和清洗方式等。我們對比了國內外三家晶圓切割機,可以看到在技術指標上,除了Disco在Z軸的移動分辨率可以做到0.00005mm一個參數比較突出外,其它公布參數本身沒有太大差異。但是參數歸參數,加工過程中設備的可控性及穩定性等都會極大的影響最終產品良率。最后,不得不說目前切割機技術最強還屬Disco。國內的和研和光力科技也都是強有力的跟隨者,特別是在傳統封裝中,國產設備基本完全可以滿足。



屹立芯創 · 除泡品類開創者



屹立芯創晶圓級真空貼壓膜系統實現多項核心技術突破。創新的真空下貼壓膜和獨家開發的軟墊氣囊式壓合專利技術,有效解決因預貼膜在真空壓膜過程中產生氣泡或是干膜填覆率不佳的問題。尤其適用于TSV等凹凸起伏的晶圓表面,可輕松實現1:20的高深寬比填覆效果。真空/壓力/溫度實現多重多段設置,內部搭配自動切割系統,適配多種干膜材料,還可擴充壓膜腔體進行二次表面整平壓合,無須另外加裝整平系統,助力企業智慧升級。


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屹立芯創以核心的熱流和氣壓兩大技術,持續自主研發與制造除泡品類體系,專注提升良率助力產業發展,專業提供半導體產業先進封裝領域氣泡解決方案,現已成功賦能半導體、汽車、新能源、5G/IoT等細分領域。

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